成長著しいカラー液晶分野のカラーフィルタ上へのＩＴＯ膜加工においては、できるだけ低温で処理できる成膜方法が求められています。

当社は独自開発したＳＶスパッタリング法をさらに進化させ、この低温処理技術を確立しました。

その結果、従来３００℃で作成されていたＩＴＯ膜の比抵抗値が２００℃以下で得られるようになり、カラーフィルタ上への低抵抗ＩＴＯ膜の量産を実現しています。

膜仕様はＣＬＲ�Uで抵抗値５．６Ω／口、膜厚約３０００Å、透過率８０％。ＣＬＲＩで抵抗値６．５Ω／口、膜厚約２６００Å、透過率８３％。ＣＬＲ−ＴＦＴで抵抗値１５Ω／口、膜厚約１５００Å、透過率８３％となっています。

携帯電話に代表される携帯情報端末がＩＴ関連産業として著しく伸長している中で、反射防止膜(ＡＲコート)が注目されています。

携帯情報端末は屋外で使用されることが多く、その時外光の反射が少なく、視認性に優れていることが求められています。

そのため、表示表面の外光反射を抑える反射防止膜が必要となる。当社はＡＲコートをスパッタリング成膜により供給しています。

1. 成膜特徴:スパッタリングにて反射防止膜のコーティングによる樹脂、フィルム基板及び大型基板に対して優位性があります。
2. 信頼性:各ユーザー毎の仕様に基づき対応致します。